二氧化硅廢水裝置允許二氧化硅的濃度在溫度、pH值以及阻垢劑，通常在不加阻垢劑時濃水端允許濃度為100ppm，某些阻垢劑能允許濃水中的二氧化硅濃度隨著社會進步、工業發展和人口的激增，環境污染問題不斷加重，尤其是水資源的污染，使得人類可利用的淡水資源少之又少?？茖W家預計至2025年，世界上將會有2/3的人口面臨嚴重的水資源短缺問題，受到生活供水不足。
      

       為了解決水資源的短缺問題，針對水資源的整體戰略，世界各國都轉向了可持續的水資源利用。如何提高水的一次利用效率和水的重復利用效率，已經成為各行各業一項重要任務。在工業用水中，很多行業都受到水中二氧化硅的限制，從用水量冷卻系統到電子行業，以及反滲透的濃水排水中二氧化硅的含量通常達到40-100mg/L，要想達到廢水的零排放和回用，必須對廢水中的二氧化硅進行去除。
       目前，對于這類廢水處理，國內外還沒有資源化的例子，現有的方法包括混凝除硅、化學絮凝除硅、離子交換膜除硅等單一去除方法。其中，傳統的化學絮凝法容易引起二次污染，無法達到深度去除二氧化硅的目的，離子交換膜法處理不僅價格昂貴而且對進水水質要求較高為240ppm。

 

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